Ley MATCH de Estados Unidos amenaza con degradar máquinas de litografía de ASML ya instaladas en China
La participación de China en ventas de ASML cayó de 36% a 19% entre el 4T de 2025 y el 1T de 2026. La ley daría 150 días a Países Bajos y Japón para alinear controles.
El hecho
Qué pasó, sin interpretaciónLa participación de China en las ventas de sistemas de ASML cayó de 36% en el 4º trimestre de 2025 a 19% en el 1er trimestre de 2026. ASML proyecta que China representará 20% de sus ventas totales en 2026. El proyecto de ley MATCH Act, en trámite en el Congreso de Estados Unidos, busca restringir la venta de sistemas de litografía DUV — tecnología menos avanzada pero aún crítica — y da una ventana de 150 días a Países Bajos y Japón para endurecer sus propios controles. La ley también apunta a cortar soporte técnico, actualizaciones de software y repuestos para máquinas DUV ya instaladas en fábricas chinas.
El contexto
Cómo se conecta con la cadena más grandeASML ya no vende a China sus máquinas EUV más avanzadas. El MATCH Act extendería las restricciones a las DUV, que son las que SMIC usa para producir chips de 7nm para Huawei.
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Ley MATCH de Estados Unidos amenaza con degradar máquinas de litografía de ASML ya instaladas en China El mismo tipo de instrumento de presión — bloqueo tecnológico — que Estados Unidos usa contra China en litografía podría replicarse en materiales como litio, cobre y tierras raras, donde Chile es proveedor relevante. Lo cubrimos en The Chinaexpert News 👇
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